事件描述
公司公布2023 年报。实现营业收入62.6 亿元，同比+32.2%；归母净利润17.9 亿元，同比+52.7%；扣非归母净利润11.9 亿元，同比+29.6%。其中，Q4 单季实现营业收入22.2 亿元，同比+31.0%；归母净利润6.3 亿元，同比+66.1%；扣非归母净利润4.6 亿元，同比+66.1%。
事件点评
核心设备均达到国际先进水平，市场份额不断提升，高端系列布局顺利。
截止2023 年末，累计4000 多台等离子刻蚀和化学薄膜的反应台在客户120多条生产线全面量产和大量重复性销售。劳动生产率不断提高，人均年化营业收入超过350 万元。（1）刻蚀设备实现收入47.0 亿元，yoy+49.4%。CCP设备，2023 年交付超400 个CCP 刻蚀反应腔，累计交付2875 个；针对超高深宽比刻蚀的Primo UD-RIE 已经在生产线验证出具有刻蚀≥60:1 的能力；应用于All-in-one 大马士革刻蚀工艺的SD-RIE 已在国内领先的逻辑客户开展现场验证。ICP 设备，在超过50 个客户生产线上进行量产，Primo Nanova累计安装445 个反应腔，近3 年cagr 超80%；深硅刻蚀设备Primo TSV200E、300E 在晶圆级先进封装、2.5D 封装等获得重复性订单，在12 英寸的3D 芯片的硅通孔刻蚀工艺上得到成功验证。（2）MOCVD 设备实现收入4.6 亿元，受市场端波动影响同比下滑。持续保持国际氮化镓基MOCVD 市场领先地位，累计交付超500 个反应腔；针对Micro-LED 应用的专用设备开发顺利，已在国内领先客户开展生产验证。
投资收益推升净利率，高投入确保新品研发，薄膜沉积产品进展顺利。
2023 年，公司毛利率45.8%，基本持平；期间费用率合计25.0%，同比+1.8pct，其中管理费用率（4.5%）同比+3.0pct；净利率28.5%，同比+3.8pct，主要系投资净收益增加所致，投资净收益和公允价值变动两项合计5.9 亿元，收入占比9.4%，同比+6.5pct。2023 年公司研发投入为12.6 亿元，同比+35.9%，占收入比重为20.2%；研发人员788 人，占比达45.8%。新开发4 款薄膜沉积产品，首台CVD 钨设备付运到关键存储客户，通过现场验证并获得重复量产订单；开发新型号HAR（高深宽比）W 钨设备及ALD W 钨设备，目前已通过客户现场验证；ALD 氮化钛设备研发稳步推进，实验室测试数据优异。
新签订单保障业绩增长，新的生产基地已投入使用，产品交付有望加快。
2023 年新签订单83.6 亿元，同比+32.3%；其中刻蚀设备新签单69.5 亿元，同比+60.1%，形成有效业绩支撑。目前产能建设顺利推进，中微临港（18 万平方米）生产和研发基地部分生产厂房及成品仓库已经于2023 年10 月投入使用；中微南昌（14 万平方米）生产和研发基地已于2023 年7 月投入使用；中微临港总部和研发基地（10 万平方米）也将封顶。截止2023 年末，合同负债科目较年初下滑，主要是产品未大规模付运所致，随着产能建设推进，1q-2q 有望加快交付，合同负债金额实现提升。
投资建议
预计公司2024-2026 年归母净利润分别为20.0\24.2\31.7 亿元，同比分别增长12.1%/20.6%/31.2%，对应EPS 分别为3.23\3.90\5.12 元，对应3月20 日收盘价154.38 元，PE 分别为47.7\39.6\30.2 倍。维持“买入-A”的投资评级。
风险提示
行业周期波动的风险，下游扩产不及预期的风险，研发进展不及预期的风险，关键技术人员流失的风险。